浙江征求意見:晶圓制造領域加速突破3-7nm制程 發(fā)展離子注入機、涂膠顯影、先進制程光刻機、刻蝕機等
2026-01-12 14:22   
來源: 云財經   
影響力評估指數(shù):21.94  
云財經訊,浙江省經信廳牽頭編制了《浙江省“十五五”新型工業(yè)化規(guī)劃(征求意見稿)》,現(xiàn)就文稿內容及公平競爭性向社會公開征求意見。征求意見指出,芯片設計與制造領域,突破低功耗芯片設計,發(fā)展高端通用芯片、專用芯片、智能芯片等,開發(fā)第五代精簡指令集架構芯片。晶圓制造領域,加速突破3-7nm制程。關鍵材料領域,發(fā)展化合物半導體材料、電子氣體、高純靶材、光刻膠等。關鍵設備領域,發(fā)展離子注入機、涂膠顯影、先進制程光刻機、刻蝕機等。封裝測試領域,加快突破芯粒封裝、三維異構集成封裝、異質封裝、脈沖序列測試等技術。新一代半導體領域,發(fā)展氧化鎵、金剛石、碳化硅、氮化鎵等。
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